半导体光刻胶：    

    产业概况：

    光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。凭借这一特殊性质，光刻胶在微电子制造、微细图形线路蚀刻领域有极高的应用价值，是半导体制造中最关键的材料之一。

    全球主要光刻胶原材料企业分布在日本、美国、中国、韩国、英国及荷兰。其中，日本企业占比最高，达50%左右。光刻胶制造的核心技术和大部分市场份额也都掌握在日本公司手中。

    国产替代情况：

    近年来，我国在半导体光刻胶领域追赶势头非常明显，在政策、产业、资本的全方位支持下发展速度较快。但目前，我国光刻胶量产产品仍以技术要求相对较低的i线/g线光刻胶为主。在高端光刻胶领域，目前国产替代比例非常低，更高端的EUV光刻胶仍处于研发阶段，未来追赶国际先进水平的空间仍然十分广阔。